Установка для химического газофазного осаждения EasyTube 3000 - Продам в Подольске

Установка ЕТ 3000 EXT производства компании Firstnano предназначена для химического газофазного осаждения пленок и покрытий при температурах до 1200ºС на плоские образцы размерами до 70х50 мм, изготовленные из различных материалов.

Характеристики установки ET 3000

Химическое газофазное осаждение может быть проведено из газообразных, жидких и твердых прекурсоров как при пониженном, так и атмосферном давлении.

В качестве газов-носителей могут быть использованы инертные газы: аргон, азот, гелий.

Рабочими газами могут служить любые инертные, окислительные и восстановительные газы, включая кислород, водород, силан, аммиак, метан и прочие.

Прекурсорами могут служить жидкие, а также твердые вещества с низкой температурой плавления (до ~ 140-150ºС):
это металлоорганические и неорганические соединения с достаточным давлением паров.
Твердые вещества с более высокой температурой плавления могут быть также использованы в ограниченном количестве применением 2-х специальных источников паров при нагревании до 400ºС.

Установка располагает источником радиоплазмы, позволяющим модифицировать процесс осаждения пленок/покрытий и понизить температуру реакции разложения прекурсоров.

Установка снабжена отдельным блоком окисления, нейтрализации, отмывки и охлаждения отходящих газов для удаления обезвреженных газов в вентиляцию и канализацию.

Охлаждение тоководов, газовых линий, генератора плазмы, газоочистки и вакуумных насосов производится водою из магистрального водопровода. Для уменьшения расхода воды имеется система оборотного водоснабжения с воздушным теплообменником.

Установка состоит из следующих основных блоков:

– Блок управления;

– Система разгрузки/загрузки;

– Реактор;

– Система газоочистки очистки;

– Система водяного охлаждения.